齐头并进。一架飞机上伸出一把刀，在另一架飞机的米粒上刻字，不能刻坏 了。”而且，温湿度和空气压力变化会影响对焦。“机器内部温度的变化要控制 在千分之五度，得有合适的冷却方法，精准的测温传感器。”贺荣明说。 SMEE 最好的光刻机，包含 13 个分系统，3 万个机械件，200 多个传感器， 每一个都要稳定。像欧洲冠军杯决赛，任何一个人发挥失常就要输球。     据 cnBeta、环球网、快科技等多家媒体证实，近日长江存储从荷兰阿斯麦 （ASML）公司订购的一台光刻机已抵达武汉。这台光刻机价值高达 7200 万 美元，约合人民币 4.6 亿元。     另据日经亚洲评论（Nikkei Asian Review）上周报道，中芯国际也向阿斯 麦下单了一台价值高达 1.2 亿美元的 EUV（极紫外线）光刻机。这台机器预 计将于 2019 年初交货。     虽然是买别人的东西，但是这两条信息还是足够令国人兴奋，毕竟这种机 器咱们造不出来，人家不卖给咱们，自己的芯片制造就搞不定。     上面这个就是 ASML 光刻机的截面图，这台机器价值不菲。事实上中国 的芯片制造商们要想量产 7nm 及其以下的工艺的芯片，就必须引入 EUV 光 刻机。     目前全球只有一家企业在光刻机市场上占据了 80%的份额，就是处于荷 兰的 ASML，旗下所研发的 EUV 光刻机曾售价高达 1 亿美元一台，而且还不 一定有货。皆因每台光刻机的装配大约需要 50000 个零件左右，预计 ASML2018 年面向全球的产量仅为 12 台，也就是 1 个月只能有 1 台出售给半

　　导体厂商。国际上着名的芯片制造商如 Intel、台积电、三星都是它名下的股 东。

　　另外，光刻机需要体积小，但功率高而稳定的光源。ASML 的顶尖光刻机， 使用波长短的极紫外光，光学系统极复杂。有顶级的镜头和光源，没极致的 机械精度，也是白搭。光刻机里有两个同步运动的工件台，一个载底片，一 个载胶片。两者需始终同步，误差在 2 纳米以下。两个工作台由静到动，加 速度跟导弹发射差不多。贺荣明说：“相当于两架大飞机从起飞到降落，始终Βιβλιοθήκη Baidu

　　光刻机跟照相机差不多，它的底片，是涂满光敏胶的硅片。电路图案经光 刻机，缩微投射到底片，蚀刻掉一部分胶，露出硅面做化学处理。制造芯片， 要重复几十遍这个过程。       位于光刻机中心的镜头，由 20 多块锅底大的镜片串联组成。镜片得高纯 度透光材料高质量抛光。SMEE 光刻机使用的镜片，得数万美元一块。       ASML 的镜片是蔡司技术打底。镜片材质做到均匀，需几十年到上百年技 术积淀。       “同样一个镜片，不同工人去磨，光洁度相差十倍。”SMEE 总经理贺荣明 说，他在德国看到，抛光镜片的工人，祖孙三代在同一家公司的同一个职位。

　　2002 年 SMEE 成立，是中国政府为了填补光刻机空白而立项。上海微电 子装备公司总经理贺荣明去德国考察时，有工程师告诉他：“给你们全套图纸， 也做不出来。”贺荣明几年后理解了这句话。       光刻机，被称为现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几 家公司能够制造。其售价高达 7000 万美金。用于生产芯片的光刻机是中国在 半导体设备制造上最大的短板，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口。

　　在能够制造机器的这几家公司中，尤其以荷兰（ASML）技术最为先进。 价格也最为高昂。光刻机的技术门槛极高，堪称人类智慧集大成的产物。       “十二五”科技成就展览上，上海微电子装备公司（SMEE）生产的中国最 好的光刻机，与中国的大飞机、登月车并列。它的加工精度是 90 纳米，相当 于 2004 年上市的奔腾四 CPU 的水准。国外已经做到了十几纳米。       光刻机制造难度有多大？