光刻机是制造芯片的核心装备，除了ASML，日本尼康也有光刻机业务，但主流的深紫外线光刻机（DUV）、极紫外线光刻机（EUV）几乎被ASML垄断，其中顶尖的EUV光刻机只有ASML可以出货。

　　DUV光刻机主要用于14nm及以上制程，但多次曝光也可做7nm，所以很多人猜测麒麟9000S是不是用DUV多次曝光制造。无论麒麟9000S是用什么类型的光刻机制造、工艺是什么，都事实上撕开了封锁的一角。

　　然而今年年初，美国为了进一步打压中国芯片行业，要求将DUV也纳入禁售范围。3月份，荷兰政府表示，考虑把光刻机的出口管制范围扩大到DUV。6月30日，荷兰政府宣布针对先进半导体设备出口的新规定，要求相关企业在出口先进产品之前须获得许可证，否则不得出口。

　　该规定原定于9月1日生效，但在中方的斡旋之后，禁令又获得了五个月的缓冲期。

　　近日，ASML官方表示：“荷兰政府也已经颁发了我们截至9月1日所需的许可证，允许ASML今年继续发运TWINSCAN NXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统。”

　　按最新规定，ASML在今年底前能够继续履行与客户签订的合同，发运获得许可的光刻设备。公司强调，客户已经知悉2024年1月1日起有可能不会获得出口许可证。

　　曝光设备应用广泛，光刻机通常指用于芯片前道工艺的光刻设备。泛半导体光刻技术可分为直写光刻和掩模光刻，直写式光刻精度较低，多用于 IC后道封装、低世代线平板显示、PCB等领域；掩模光刻目前的主流形式为投影式，光刻精度高，可用于IC制造的前道工艺、后道先进封装和中高世代线的FPD生产。

　　◼ 光刻机单机价值量高，孕育千亿市场空间。2022年全球晶圆前道设备销售941亿美元，光刻机占17%，是IC制造的第三大设备，但却是单机价值量最大的设备。据ASML财报测算，2022年单台EUV价格约1.8亿欧元，浸没式DUV约6500万欧元。

　　华为手机突破7nm芯片大概率用的DUV多重曝光，不过这个方法要付出的代价实在太大了，曝光时间成倍数增加，需要制备更多的掩膜版，每次曝光都需要更多的配套工序(光刻胶涂覆、软烘烤、对准、显影、甩干、硬烘烤、图形检测等)，

　　冠石科技：拟投资切入半导体掩膜版领域，产品制程将覆盖350-28nm(其中以45-28nm成熟制程为主)，预计2024年投产、2025年可实现45nm光掩膜版量产，2028年可实现28nm光掩膜版量产。

　　清溢光电:完成了180nm半导体芯片用掩膜版的客户测试认证，正在开展130nm-65nm半导体芯片用掩膜版的工艺研发和28nm半导体芯片所需的掩膜版工艺开发规划。

　　路维光电:已实现180nm及以上制程节点半导体掩膜版产品的量产。同时储备了150nm制程节点掩膜版制造技术，可覆盖第三代半导体相关产品。

　　苏大维格（掩膜，纳米压印光刻）向上海微电子提供了光刻机用的定位光栅产品；

　　荷兰阿斯迈尔公司宣布继续向中国出口更先进DUV光刻机，对蓝英装备型成重大利好，因为蓝英装备子公司为全球唯一指定ASML公司光刻机相关设备配套清洗设备，蓝英装备的主营业务包括：

　　①.工业清洗系统及表面处理业务和智能装备制造业务两个板块，工业清洗系统及表面处理业务拥有三大核心业务板块：国内半导体制造通用多件清洗业务、专用单件清洗业务和精密清洗业务，智能装备制造业务有橡胶智能装备、数字化工厂和电气自动化业务及集成三个部门。

　　②、子公司UCMAG主要为光学和精密仪器行业提供清洗设备。对于精密光学、医学工程、精密机械以及PVD、CVD涂层前清洗等典型的清洁度要求最高的应用领域，公司在精密清洗业务板块的代表产品UCM系统可提供全套个性化的设备及解决方案。凭借行业领先的技术实力，UCMAG为ASML(荷兰光刻机制造商阿斯麦公司)及其供应商提供极紫外光刻机(EUV)的光学系统相关关键部件的清洗设备。

　　①、公司是国内泛半导体设备精密洗净领先服务商，业务涵盖半导体设备洗净服务、显示面板设备清洗服务及半导体设备维修服务三大板块，目前已经掌握了成熟的28/14纳米制程PVD部件清洗再生技术，成功打破了日韩和欧美国家技术垄断。

　　②、根据芯谋研究发布的《国内泛半导体设备零部件洗净服务行业发展研报》(中国大陆地区),公司精密洗净等业务市场占有率处于国内领先地位。

　　③、客户端与英特尔台积电、京东方等头部客户建立了合作关系，中芯国际为公司第三大客户。

　　④、公司所提供的半导体设备维修服务主要为HS翻新服务，主要是为CMP设备研磨头进行清洗、配件更换维修再生服务。

　　1、长春光机所攻克EUV光源技术，获得吉林省科技进步一等奖的18个奖项。

　　对于中国人造光刻机，看一看ASML总裁不断变换的说法，也是一件挺有意思的事情。“

　　2019年，ASML总裁霸气侧漏地宣称:就算给你们全套图纸，中国也造不出一台光刻机。”

　　2021年，ASML总裁开始感到有点不对劲，改口说:“物理规则在全世界都是一样的，封锁只会加速中国自主研发的速度。”

　　2022年，ASML总裁做出重要战略调整:“中国是半导体产业的重要参与者，向中国出售光刻机符合我们的利益。”

　　2023年初，ASML总裁苦口婆心地劝诫中国同行:“单一国家想要建立自力更生的芯片产业是极其困难的，想要成功需要和全球供应商长期合作。”潜台词是，还是别研发了，买我们的机器吧!

　　2023年中，ASML总裁不无惊恐地指责:“中国自己研发光刻机，是在破坏全球产业链。”只剩下“道义”谴责

　　2023年9月9日，这位老兄终于无可奈何地承认:“中国有14亿人，而且聪明人很多。他们能想到我们未想到的解决方案，出口管制只会迫使他们提升创新能力。”“他们做事更努力、更专注、更快，我们太自以为是了。

　　曝光设备应用广泛，光刻机通常指用于芯片前道工艺的光刻设备。泛半导体光刻技术可分为直写光刻和掩模光刻，直写式光刻精度较低，多用于 IC后道封装、低世代线平板显示、PCB等领域；掩模光刻目前的主流形式为投影式，光刻精度高，可用于IC制造的前道工艺、后道先进封装和中高世代线的FPD生产。

　　◼ 光刻机单机价值量高，孕育千亿市场空间。2022年全球晶圆前道设备销售941亿美元，光刻机占17%，是IC制造的第三大设备，但却是单机价值量最大的设备。据ASML财报测算，2022年单台EUV价格约1.8亿欧元，浸没式DUV约6500万欧元。

　　张江高科：持有上海微电子（国内唯一从事高端光刻机研产销企业）9.0888%的股权。

　　奥普光电：中科院长光所下唯一上市公司，公司而且本事做的也是光刻机镜头和光源的相关业务，虽然长光所的国科精密卖给了国旺光学，但长光所同时也持有了国望光学股份，而且从最近一些长光所的科技金奖项目和内部信息来看，它的EVU光源方面技术储备超过上海微电子，而且和哈工合作，在光刻机方面有巨大突破。但这个公司你问的时候都喜欢说我什么都没做，华工大被ZC大家都知道吧同飞股份：液体恒温设备

　　福晶科技：研发的KBBF晶体为可直接倍频产生EUV激光的非线性光学晶体。

　　旭光电子：子公司成都易格机械和长春光机所子公司奥普光电合资成立长春长光易格精密（易格机械42%，奥普光电58%）公司持有成都储瀚32.55%股权（中际旭创持有 67.19%），成都储翰是专注于光模块和光组件、生产及销售的高新技术企业，拥有从芯片封装到光电器件到光电模块的垂直整合产品线。储瀚团队由前飞通团队创办，是TO封装国内头部公司。

　　佳能纳米压印光刻技术目前具备了5nm以下制程芯片的量产能力，能将制造成本降低四成，耗电量降低九成。

　　光刻机半导体工业皇冠上的明珠光刻机是制造芯片的核心装备，除了ASML，日本 尼康 也有光刻机业务，但主流的深紫外线光刻机（DUV）、极紫外线光刻机（EUV）几乎被ASML垄断，其中顶尖的EUV光刻机只有ASML可以出货。DUV光刻机主要用于14nm及以上制程，但多次曝光也可做7nm，所以很多人...