大家都知道，我国的芯片事业一直都是比较落后的，特别是在华为经历了“卡脖”事件之后，芯片的发展更是成为了大家十分关注的事情。但是想要芯片事业更进一步，一直都有一个大山需要翻越，那就是光刻机。

　　很多科学家都在考虑，我国是否应该独立研制光刻设备，但吴汉明院士却持否定态度！他觉得，我国目前最主要的事情，不是研发光刻机，而是需要将注意力放在7nm生产线nm的全面国产化，才可以解决中国芯的问题，打造完整的半导体产业链。那么他的想法有错吗？

　　对于吴汉明院士的观点，不少网民表示了不同意见，并表示中国为什么不能生产 EUV光刻机，未免太过贬低自己了。不过平心而论，自主研发 EUV光刻机的难度，实在太大了，可能五年、十年、二十年都做不到，就算经过多年的努力，取得了成功，但在那个时候，光刻机也成为了落后的产品，将没有任何意义。

　　放眼世界，目前有能力制作光刻的也就荷兰的 ASML，日本的 Nikon与 Canon，以及上海微电子，而荷兰的 ASML更是在 EUV光刻机领域占据着绝对的话语权，甚至可以说是中高端领域的霸主。

　　ASML作为世界上最顶尖的光刻设备制造商，在整个光刻行业都算得上是“天花板”级别的人物。回溯到2018年，中芯国际以1亿5千万美元的价格，向 ASML购买最新 EUV光刻机，但因为老美的阻挠，一直到现在还没能交货。就是因为这样，我国到现在都没有获得一台光刻机。

　　之所以会出现这样的情况，有两个重要的原因。第一点就是，ASML一直在忌惮着我国的学习能力，以及研发能力，他们心里很清楚，一旦我国拥有高端的光刻机，就可以实现芯片的量产，而且研究出更高端的芯片也只是时间问题。一旦出现这样的情况，台积电的利润以及芯片订单就会减少。而ASML和台积电有着很紧密的联系，一旦台积电的利润减少，他们的利润也会有所影响。

　　其次，众所周知，制作一台光刻机，不但需要非常多的零部件，甚至超过了十万个。而目前全球五千多家的供应商中，有很多都是美国的公司，因此想要获得大批零件，就需要美国的同意，就算ASML想要给予中国光刻机，也需要美国的同意。

　　为此，中国工程院吴汉明院士曾提出过这样的观点，“不要将目光锁定在 EUV光刻机上，与其在一棵树上吊死，不如着重发展我国更加成熟的55nm、28nm的芯片制作，只有在这个方面取得了成就，才能慢慢打破芯片行业的束缚。”

　　想要自主研发出光刻机，以我们目前的科技水平，根本做不到这一点。要知道，一台EUV光刻机，可是有超过十万个精密零件的，而且每一个零件，都是由多个国家生产出来的，然后再由 ASML进行装配。这就导致了，对技术的要求很高，而且产业链也很广。仅凭一个国家的力量，很难完成 EUV光刻机的研制。

　　虽然我国的科研人员，也知道想要研究出一台光刻机，是非常困难的事情，基本上是无法完成的。但是我国的很多尖端企业，比如清华大学，上海微电子等等，都在努力地进行研究，但是依旧处于起步阶段。虽然我国依然在勇敢地尝试，但是想要成功研发，还有很长的路要走。

　　因此，我们不应该将所有的心思都放在机器的研发上，还要不断努力，去寻找更好地突破限制的方法，因此吴院士才会有否定的想法。

　　这是因为，以我们国家的技术水平，完全可以生产出符合我们国家要求的芯片，不需要太多地依靠国外的援助，只有打下了坚实的基础，我们才能变得更强。事实上，在光刻技术的发展上，我国起步并不晚，在当时，我们已经站在了世界的前列。在荷兰 ASML尚未建立之前，国内一所著名大学的精密仪器专业，就已经在1971年成功开发了一台“激光干涉定位自动分布重复照相机。”

　　当时日本还停留在如何提高胶卷技术的时期，所以我国当时的技术可以说是非常先进了，当时我国的激光技术已经突飞猛进。但是这样的成就却没有坚持很久，当时的发明并没有受到国家的重视，而是踏入了“造不如买”的错误当中，导致我国错失了发展的机会。

　　虽然我国错过了机会，但是还好我国醒悟得比较早，也一直在不断努力着。目前，我国虽然还无法研制出自己的光刻机，但是已经掌握了两千多项专利技术。而且在LED光刻机市场以及中高端封装光刻机上，取得了很大的成就。

　　但是我国在生产芯片所用的光刻机上，还是一直处于劣势，和ASML相比，差距还是很大的。但是我国的科研人员并没有放弃，并且北大教授还表示，当初ASML曾说过，中国如果一直无法进口光刻机，那么就算三年五年之后，我国也无法掌握这门技术。但是北大教授却不这么认为，他觉得我国很快就会掌握这门技术，并且还会生产出成本更低的光刻机，那时荷兰就只能退出。

　　对于国产EUV光刻机的研发，目前来说，既不能像北大教授说的那样迅速，也不会像吴汉明院士说的那样不堪。这两位教授的观点并不完全错误，只不过有些片面。我相信，就算面对再大的困难，我国的研发人员也不会放弃，最终会将此产业链逐步完善，研发出自己的光刻机。返回搜狐，查看更多